| 新型臭氧化 | （1）O3传质速率和水溶性低，单独臭氧氧化对ARB灭活和ARGs消除效果差，可能会增加 ARGs的相对丰度〔65〕；（2）新型O3/HClO〔66〕、O3/US〔67〕耦合工艺更具优势 | （1）对抗性细菌细胞壁、细胞膜和细胞内蛋白质的损害；（2）O3和活性氧（ROS）对遗传物质的破坏〔68〕 |
| Fenton反应 | （1）低pH对ARB具有永久性损伤作用，·OH可使细菌DNA变性，降低ARGs传播〔69〕；（2）增加n（Fe2+）∶n（H2O2）有利于ARB失活和ARGs去除〔70〕 | （1）通过突变和链断裂破坏细菌DNA，灭活ARB〔71〕；（2）H2O2氧化和铁离子释放促使细胞内酶失活〔70〕 |
| 光催化氧化 | （1）UV/H2O2工艺比紫外线辐射或氯化消毒处理ARGs更有效〔61〕；（2）UV/TiO2工艺中，ARB的失活效率随TiO2用量的增加呈指数增加〔72〕；（3）石墨烯氧化钛（TiO2-rGO）、石墨氮化碳（gC3N4）等新型光催化剂及TiO2/H2O2/UV组合工艺等在去除ARGs方面具有更高效率〔65〕 | 半导体粒子和ROS引起DNA复制解体及细胞死亡〔73〕 |
| 过硫酸盐氧化 | （1）SO4·-半衰期长，与ARGs反应时间长，ARGs去除效率高；（2）纳米零价铁、Fe2+、紫外等活化方式可提高ARGs降解率；（3）基于SO4·-氧化工艺对ARGs的降解效果较氯化、臭氧氧化和紫外消毒的更有效〔74〕 | ·OH和SO4·-在去除ARB和ARGs方面发挥关键作用〔55〕 |