紫外高级氧化技术去除2-MIB的研究与应用
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姜清月,王永磊,李雷,张坤,栗静静,金丽,邵明睿,赵银河,刘建广
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Research and application on removal of dimethylisoborneol by UV advanced oxidation technology
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Qingyue JIANG,Yonglei WANG,Lei LI,Kun ZHANG,Jingjing LI,Li JIN,Mingrui SHAO,Yinhe ZHAO,Jianguang LIU
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表1 不同技术对2-MIB的处理效果对比
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Table 1 Comparison of treatment effects of different technologies on 2-MIB
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工艺 | 技术参数 | 降解率/% | 优点 | 缺点 | 文献 |
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UV/H2O2 | UV强度为2 700 mJ/cm2,H2O2质量浓度为6 mg/L | 90 | 氧化能力强,绿色、环保、无污染 | H2O2易分解且残留过多,易受NOM影响 | 〔14〕 | UV/Cl | pH为5~7,反应1 h内 | 几乎完全去除 | 经济性较好,消毒杀菌效果较好 | 易产生氯代消毒副产物 | 〔2〕 | VUV/Cl | pH为5,反应30 min,2-MIB初始质量浓度400 ng/L | 98 | 较UV/Cl效果好,产生的自由基多 | 易产生氯代消毒副产物 | 〔18〕 | UV/PS | PDS浓度为10 μmol/L,反应600 s,2-MIB初始质量浓度为40 μg/L | 86 | 中性和碱性条件下氧化能力更强 | 易受碳酸氢盐和NOM影响 | 〔21〕 | VUV/PS | PS浓度为0.05 mmol/L,反应60 min | 79 | 效率高,能耗低 | 易受有机物影响,争夺自由基 | 〔22〕 | UV/O3 | O3投加量为2~3 mg/L,UV强度500~600 mJ/cm2,反应2~3 min | 90 | 氧化能力强,操作简单 | 臭氧设备投资高,产率和利用率低 | 〔27〕 | UV/TiO2 | UV波长380 nm,反应60 min | 95 | 反应环境温和,适用范围广 | 光能利用率低,运行能耗、费用高 | 〔28〕 |
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