UV/CeO2耦合Oxone深度处理制药废水的研究
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Advanced treatment of pharmaceutical wastewater by UV/CeO2 and Oxone coupling system
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收稿日期: 2022-03-22
基金资助: |
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Received: 2022-03-22
作者简介 About authors
王文富(1979—),高工E-mail:
郑宾国,教授E-mail:
关键词:
Keywords:
本文引用格式
王文富, 华琼, 王程豫, 赵晓辉, 郑宾国.
WANG Wenfu.
Oxone试剂(KHSO5·0.5KHSO4·0.5K2SO4)在紫外光辐射及过渡金属作用下,容易产生硫酸根自由基(SO4·-),SO4·-的氧化性很强,氧化还原电位能达到3.1 V,高于一般氧化法产生的·OH的氧化还原电位(2.8 V)〔10〕。本研究采用UV/CeO2耦合Oxone催化氧化制药废水中的有机污染物并优化相关实验参数,以期为制药废水的深度处理提供一种新的技术选择。
1 实验部分
1.1 水样与试剂
水样来源:实验所用制药废水取自河南省驻马店市某制药厂的生化处理工段二沉池出水,该制药厂主要生产盐酸克林霉素、林可霉素、乙酰螺旋霉素和左氧氟沙星等抗生素药物。3次取样的废水等量混合后呈黄褐色,pH为6.86,COD为326 mg/L,BOD为38.6 mg/L,B/C为0.118,TOC为132.6 mg/L。实验过程中使用的水均为实验室自制的去离子水。
实验试剂主要包括:柠檬酸钠、浓盐酸、氢氧化钠、Oxone试剂(KHSO5·0.5KHSO4·0.5K2SO4)、六水合硝酸铈、尿素、十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)和无水乙醇,所有试剂均为分析纯。
1.2 实验设备
实验设备主要包括:分析天平(FA2104N)、精密数显酸度计(pHS-3C)、电热恒温鼓风干燥箱(DHG-9240A)、高速离心机(TU1810)、磁力加热搅拌器(HJ-4B)、恒温振荡箱(ZD-85)、X射线衍射仪(Bruker D8)、场发射扫描电子显微镜(FEI Quanta 250FEG)、紫外灯(UV,功率1 000 W)、COD快速测定仪(5B-1)和TOC分析仪(VCPH)。
1.3 CeO2的制备
称取8.82 g柠檬酸钠溶于100 mL蒸馏水中并充分搅拌5 min,再添加3.6 g尿素制得溶液A;取2.45 g六水合硝酸铈溶于20 mL去离子水中,配成溶液B。将溶液B缓慢倒入溶液A中,充分搅拌后得淡黄色透明溶液。将混合液倒入反应釜,120 ℃下水热反应24 h后得到白色沉淀,将沉淀用蒸馏水、无水乙醇洗涤3次并干燥,400 ℃煅烧4 h后即制得淡黄色CeO2粉末。
1.4 实验过程
取250 mL制药废水置于500 mL玻璃器皿中,加入一定量的CeO2和Oxone试剂。设置反应温度,调节溶液pH,固定紫外光辐照距离为10 cm,振荡反应。每隔10 min取样分析制药废水COD的变化,计算COD去除率;分析最佳处理工艺条件下水样TOC的变化。所有试样均平行测试3次,测试结果取3次试样的平均值。处理后的制药废水由黄褐色变为淡黄色。反应装置如图1所示。
图1
2 结果与讨论
2.1 CeO2材料的表征
利用扫描电镜分析CeO2的表观形貌,扫描电镜参数设置为:加速电压为10 kV、分辨率为1 µm、放大倍数为10 000倍。结果如图2所示。
图2
采用X射线衍射仪分析CeO2的结构特征,结果如图3所示。
图3
2.2 制药废水深度处理的工艺选择
在反应温度为30 ℃、Oxone质量浓度为1.0 g/L、CeO2质量浓度为0.6 g/L的条件下,考察CeO2吸附、UV辐射、UV/CeO2氧化、Oxone氧化和UV/CeO2耦合Oxone氧化工艺深度处理制药废水的效果,结果如图4所示。
图4
图4
深度处理工艺对制药废水COD去除的影响
Fig. 4
Effect of advanced treatment processes on COD removal for pharmaceutical wastewater
2.3 pH对COD去除的影响
在反应温度为30 ℃、Oxone质量浓度为1.0 g/L、CeO2质量浓度为0.6 g/L的条件下,设置废水的pH分别为4.43、5.21、6.86、7.84、8.64,考察pH对制药废水COD去除效果的影响,结果如图5所示。
图5
图5
pH对制药废水COD去除的影响
Fig. 5
Effect of pH on COD removal for pharmaceutical wastewater
2.4 Oxone用量对COD去除的影响
在反应温度为30 ℃、CeO2质量浓度为0.6 g/L、pH为6.86的条件下,考察Oxone用量对制药废水COD去除效果的影响,结果如图6所示。
图6
图6
Oxone用量对制药废水COD去除的影响
Fig. 6
Effect of Oxone dosage on COD removal for pharmaceutical wastewater
图6表明,Oxone用量对COD的去除有显著影响。Oxone质量浓度为0.6 g/L时,反应60 min后COD的去除率为71.43%;增加Oxone用量,COD的去除率显著提高,当Oxone用量增加到1.0 g/L时,反应60 min后COD去除率达到90%以上;再提高Oxone用量,COD去除率提高的幅度不大;当Oxone用量达到1.5 g/L时,COD去除速率较快,但反应60 min后COD的去除率相比1.2 g/L时略有降低,原因可能是Oxone用量过大时,会发生
2.5 CeO2用量对COD去除的影响
在反应温度为30 ℃、Oxone质量浓度为1.0 g/L、pH为6.86的条件下,考察CeO2用量对制药废水COD去除效果的影响,结果如图7所示。
图7
图7
CeO2用量对制药废水COD去除的影响
Fig. 7
Effect of CeO2 dosage on COD removal for pharmaceutical wastewater
图7表明,CeO2用量对制药废水COD去除有一定影响。在0.2~1.5 g/L范围内,随CeO2用量增加,COD的去除率快速增加,原因是发生了
2.6 温度对COD去除的影响
在Oxone质量浓度为1.0 g/L、CeO2质量浓度为0.6 g/L、pH为6.86的条件下,考察温度对制药废水COD去除效果的影响,结果如图8所示。
图8
图8
温度对制药废水COD去除的影响
Fig. 8
Effect of temperature on COD removal for pharmaceutical wastewater
图8表明,温度越高,COD去除速率越快,但反应60 min后,25、30、35 ℃下COD的去除率均达到了90%以上。考虑到废水的实际温度,选取30 ℃为宜。
2.7 废水TOC的变化
在反应温度为30 ℃、Oxone质量浓度为1.0 g/L、pH=6.86、CeO2质量浓度为0.6 g/L的条件下,考察废水TOC的变化,结果如图9所示。
图9
从图9可以看出,UV/CeO2耦合Oxone氧化工艺能去除制药废水的TOC,反应60 min后,废水的TOC从132.6 mg/L降到30.5 mg/L,TOC去除率为76.99%。这表明UV/CeO2耦合Oxone氧化工艺不仅能去除废水的COD,还能矿化废水中的有机污染物。
3 结论
(1)UV/CeO2耦合Oxone氧化工艺对制药废水COD的去除效果明显优于UV/CeO2和Oxone单独氧化工艺。UV和CeO2协同活化Oxone,反应体系内生成了大量的SO4·-,显著提高了Oxone的氧化能力。
(2)Oxone用量、废水pH、CeO2用量、反应温度等均影响制药废水COD的去除效果。酸性环境有利于COD的去除;在一定范围内,Oxone和CeO2用量越大,COD去除效果越好;反应温度越高,COD的去除速率越快。
(3)在制药废水初始COD为326 mg/L、TOC为132.6 mg/L、Oxone质量浓度为1.0 g/L、CeO2质量浓度为0.6 g/L、pH为6.86、温度为30 ℃、反应时间为60 min的条件下,UV/CeO2耦合Oxone氧化工艺对制药废水COD的去除率为90.21%,TOC去除率为76.99%。
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