工业水处理 ›› 1999, Vol. 19 ›› Issue (3): 32-32,33. doi: 10.11894/1005-829x.1999.19(3).32
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秦玉华, 杨晓光, 杨迎军
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化学发光分析是近年来获得迅速发展的一种高灵敏的微量及痕量技术。作者采用流动注射停流技术，实现硅磷共存时不经分离测定水中微量硅，该法检出限可达2.0×10-9g/mL,硅含量在4.0×10-4～6.0×10-8g/mL范围内与发光强度成线性关系，相对标准偏差2.5%,该法灵敏、准确、快捷，应用于水样中硅的测定，结果满意
关键词: 微量硅, 流动注射, 化学发光法
秦玉华, 杨晓光, 杨迎军. 水中微量硅的停流流动注射化学发光法测定研究[J]. 工业水处理, 1999, 19(3): 32-32,33.
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