工业水处理 ›› 1985, Vol. 5 ›› Issue (6): 22-25. doi: 10.11894/1005-829x.1985.5(6).22

• 专论与综述 • 上一篇    下一篇

电子工业纯水处理技术的发展动向

赵文波   

  1. 电子工业部第十设计研究院
  • 收稿日期:1984-08-01 出版日期:1985-11-20 发布日期:2014-09-29
  • Received:1984-08-01 Online:1985-11-20 Published:2014-09-29

摘要:

近年来,半导体及集成电路生产中用水,要求其水质的电阻率达到15~18兆欧—厘米(25℃),接近纯水的理论值。因此,在纯水水质标准、纯水处理工艺流程及系统、设备装置、微量检测技术,以及清洗废

关键词: 微粒, 水处理技术, 预处理, 电子工业, 发展动向, 反渗透, 水质标准, 电阻率, 杂质, 工业纯水